隨著28納米工藝技術的成熟,28納米工藝產品市場需求量呈現爆發式增長態勢,從2012年的91.3萬片到2014年的294.5萬片,年復合增長率高達79.6%。而且隨著“中國制造2025”戰略的實施,許多高新科技領域對集成電路的需求十分巨大,同時對大規模集成電路的設計生產、封裝環節要求越來越高。
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大規模集成電路的制造利用各種各樣的設備和工藝技術。各專業技術人員雖然對自己分工的工藝技術精益求精,但對其它工藝生產情況有時不一定了解,甚至往往不注意個人負責的設備和工藝生產給潔凈室(cleanroom)內的環境帶來的不良影響。
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對集成電路產品造成影響的潔凈室污染因素:
(1)電磁噪聲
通過大電流的氧化爐等設備的電纜和反復控制通斷的電磁開關,高頻振蕩等產生的電磁噪聲,影響電子束掃描設備的掃描精度。其影響程度與發生源的距離成反比。
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(2)振動
設備內的真空泵電機工作時會把振動經地板傳遞到微細加工設備和顯微鏡等精密設備儀器上,影響它們的工作精度。應在振源和怕受振動的設備下安裝空氣彈簧減震器,以達到衰減振動的目的。
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(3)生銹
酸用通風罩局部排風量不足時,酸霧氣擴散于室內,腐蝕室內設備的金屬部分,就是不銹鋼裸露在含氯氣的空氣中,也會受腐蝕生銹。處理酸的最有效的方法是采用密閉通風罩,保證足夠的局部排風量。
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除上述人們熟知的原因之外,還有器材和設備的搬出和大修施工時的污染問題。這些污染不只是由于人的移動造成的,設備移動也會揚起已落在地板表面和器材上的塵埃。特別是更換設備時養護地板,搬進小工具或很多搬運工進出潔凈室,這些情況會導致室內的懸浮塵埃量比平時大一百倍以上。
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對潔凈室局部改造的施工中,通常人在地板下鋪設管道或者坐在地板上進行作業。這種施工有時切割管道,于是聚氯乙烯管和不銹鋼等切屑粉末飛揚出來。所以大修時盡管周圍掛上檔布以養護,但由于施工人員進進出出,受污染的不僅僅是局部范圍,而且全室都受嚴重污染。
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在潔凈室內,只用有人在操作,有設備在運行,就會發塵。這些塵埃并非隨著循環氣流為高效過濾器所捕集,一部分塵埃總要積落在地板、墻壁、設備表面上。應清除這些積塵,以保持潔凈室的清潔。